1
光刻机概述
核心地位 · DUV/EUV · ASML/Nikon/Canon
2
光源系统
ArF/KrF · LPP/LDP · 科益虹源/华卓精科
3
物镜系统
光学设计 · 高NA物镜 · 国望光学/长春光机所
4
工件台系统
双工件台 · 运动控制 · 华卓精科/清华大学
6
掩模台系统
运动对准 · 温度形变 · 国产掩模台
7
对准系统
TTV/ATS · 套刻精度 · 国产进展
11
气体系统
F₂/Ar/Ne · 纯化供应 · 国产替代
12
涂胶显影系统
涂布显影 · TEL/DNS · 沈阳芯源/盛美
13
光刻胶
I-line/KrF/ArF/EUV · 北京科华/博康/南大
18
量测系统
CD/套刻/膜厚 · 中科飞测/上海精测
19
缺陷检测系统
晶圆缺陷 · 光刻缺陷 · 中科飞测/睿励
22
光学元件
镜片反射镜 · 镀膜 · 成都光明/凤凰
25
控制系统
实时控制 · FPGA/DSP · 紫光/复旦微
26
软件系统
控制软件 · OPC/计算光刻 · 华大/概伦
28
供应链分析
供应链地图 · 瓶颈机遇 · 安全策略
30
未来展望
High-NA EUV · 纳米压印 · 国产路线图