📡 尼康步进扫描光刻机 · 精讲
🎯 30章 从入门到精通
1
光刻机概述
半导体制造
光刻核心
发展简史
··
2
尼康公司简介
历史地位
ASML竞争
NSR系列
3
步进扫描基本原理
步进vs扫描
优势
关键参数
4
光学系统 (上)
照明系统
光源
柯勒照明
5
光学系统 (下)
投影物镜
NA
瑞利判据
6
掩模与掩模台
掩模版
运动控制
Pellicle
7
硅片与硅片台
气浮导轨
直线电机
双工件台
8
对准系统
TTL技术
对准标记
多波长
9
调焦与调平
形貌测量
调焦传感器
DOF控制
10
曝光剂量控制
积分器
快门
剂量均匀性
11
扫描同步控制
同步扫描
速度匹配
加减速
12
环境控制系统
±0.01℃
Class 1
振动隔离
13
整机控制系统
主控制器
实时OS
通信总线
14
光刻胶与工艺
正胶/负胶
涂布
PEB
15
关键工艺参数
EL
DOF
MEF
工艺窗口
16
分辨率增强技术
OPC
PSM
OAI
浸没式
17
套刻精度控制
误差来源
套刻测量
APC
18
缺陷检测与复检
缺陷类型
ADI
复检策略
19
尼康NSR系列详解 (上)
2005i9C
S610D
S622D
20
尼康NSR系列详解 (下)
S635E
S360D
参数对比
21
尼康Streamer平台
平台架构
模块化
vs Twinscan
22
光刻机软件系统
NSR-OS
Recipe
远程诊断
23
安装与调试
场地准备
搬入组装
SAT
24
日常维护与保养
每日/周/月
易损件
校准周期
25
故障诊断与排除
E-code
FTA
典型案例
26
产率提升策略
缩短步进
优化扫描
双工件台
27
光刻机与先进制程
7nm/5nm/3nm
多重图形化
EUV冲击
28
尼康光刻机的未来
纳米压印
EUV布局
2nm路线
29
光刻机市场分析
全球格局
尼康份额
国产现状
30
课程总结与展望
核心回顾
发展趋势
从业者建议