芯片顶层集成与版图合并实战
📚 共计 30 章节
01
芯片设计流程概览
从RTL到GDSII的完整流程,顶层集成与版图合并的角色定位。
流程
概览
02
顶层集成环境搭建
EDA工具链选择(Innovus/ICC2),工艺文件与标准单元库准备。
环境
EDA
03
顶层网表准备
顶层网表结构解析,子模块黑盒化与接口定义。
网表
接口
04
顶层Floorplan规划
芯片尺寸估算,IO Pad布局,宏单元(Memory/IP)摆放策略。
Floorplan
布局
05
电源网络规划
顶层PG(Power/Ground)网络设计,IR Drop分析与电源环规划。
电源
IR Drop
06
顶层电源网络实现
VDD/VSS环、Stripe、Rail的生成与连接,EM规则检查。
PG
EM
07
子模块接口对齐
子模块Pin位置对齐,Blockage与Keepout Margin设置。
接口
对齐
08
顶层标准单元Placement
顶层逻辑单元的自动摆放,Congestion预估与优化。
Placement
拥塞
09
时钟树综合(CTS)基础
时钟源定义,时钟树结构(H-tree/Grid)选择。
CTS
时钟
10
顶层时钟树综合实战
跨模块时钟走线,时钟屏蔽与时钟门控插入。
时钟树
门控
11
顶层布线(Routing)策略
全局布线与详细布线,布线层分配与线宽线距规则。
Routing
线宽
12
顶层布线优化
天线效应修复,绕线拥塞处理,Density均匀化。
优化
天线
13
静态时序分析(STA)基础
Setup/Hold检查,时序路径分类(Reg-to-Reg/IO)。
STA
时序
14
顶层STA实战
多模式多角(MMMC)分析,跨时钟域(CDC)时序检查。
MMMC
CDC
15
顶层物理验证(PV)基础
DRC/LVS/ERC规则文件解读,顶层验证流程。
PV
DRC
16
顶层DRC实战
最小间距、最小宽度、天线规则检查,常见DRC Violation修复。
DRC
修复
17
顶层LVS实战
网表一致性检查,子模块LVS黑盒化处理,ERC检查。
LVS
ERC
18
顶层IR Drop与EM分析
Redhawk/Voltus工具使用,动态IR Drop热点修复。
IR Drop
EM
19
顶层功耗分析
动态功耗与静态功耗计算,低功耗技术(Power Gating/MV)集成。
功耗
低功耗
20
顶层信号完整性(SI)分析
串扰噪声、延迟变化,屏蔽线插入策略。
SI
串扰
21
顶层DFM(可制造性设计)
OPC、CMP热点修复,冗余通孔插入。
DFM
通孔
22
顶层ECO(工程变更单)流程
功能ECO与时序ECO,In-Place ECO实现。
ECO
变更
23
顶层版图合并(Merge)基础
GDSII合并原理,子模块GDS与顶层GDS的层次映射。
Merge
GDS
24
顶层版图合并实战
使用Calibre/Laker进行Merge,层次化Flat处理。
Calibre
层次
25
顶层版图合并后验证
Merge后DRC/LVS检查,Top Cell与子模块连接性验证。
验证
连接
26
顶层Tapeout准备
GDSII最终输出,StreamOut选项设置,Tapeout Checklist。
Tapeout
GDS
27
顶层Signoff签核
Timing/Power/IR/Physical Signoff标准,Signoff报告生成。
Signoff
签核
28
顶层集成自动化脚本
Tcl/Perl脚本实现Floorplan、Place、Route自动化。
脚本
Tcl
29
顶层集成常见问题与Debug
Open/Short问题,Congestion热点,时序Violation修复。
Debug
修复
30
项目实战:从RTL到GDSII
顶层集成全流程演练,输出最终版图与报告。
实战
全流程