01
MOCVD工艺概述
基本原理、设备构成、工艺参数简介
基础设备
02
重复性与一致性的定义
统计过程控制基础、Cp/Cpk指标解析
统计核心
03
影响重复性的关键因素
温度均匀性、气流稳定性、前驱体供给
因素分析
04
温度控制策略
多区加热控制、热电偶校准、温度梯度优化
热场控制
05
气流动力学与均匀性
喷淋头设计、载气流量控制、边界层效应
流体均匀性
06
前驱体供给系统
鼓泡器温度控制、管路伴热、质量流量控制器校准
供给MFC
07
衬底准备与装载
清洗工艺、托盘设计、装载重复性
衬底装载
08
工艺参数设定与优化
响应面法、田口方法、DOE实验设计
优化DOE
09
实时监测与反馈控制
反射率监测、温度补偿、闭环控制
监测闭环
10
批次间一致性控制
设备状态恢复、工艺配方管理、环境因素控制
批次管理
11
统计过程控制(SPC)实施
控制图绘制、异常判定规则、纠正措施
SPC质量
12
设备维护与校准
定期维护计划、关键部件更换周期、校准标准
维护校准
13
工艺腔室状态管理
腔室清洁、涂层老化、颗粒控制
腔室清洁
14
前驱体质量控制
纯度、批次差异、储存与使用规范
前驱体纯度
15
载气与特气系统
纯化器管理、管路泄漏检测、气体切换逻辑
气体安全
16
真空系统与压力控制
泵组维护、压力传感器校准、泄漏率控制
真空压力
17
自动化与MES集成
配方自动加载、数据追溯、报警管理
自动化MES
18
数据采集与分析系统
数据库设计、数据挖掘、趋势分析
数据分析
19
故障模式与影响分析(FMEA)
潜在故障识别、风险优先级、预防措施
FMEA风险
20
标准操作程序(SOP)制定
操作规范、检查清单、变更管理
SOP规范
21
人员培训与认证
操作员培训、工程师培训、技能考核
培训认证
22
工艺转移与放大
从研发到量产、不同机台间匹配、工艺移植
转移放大
23
多腔室匹配
腔室间差异分析、匹配测试、补偿策略
匹配腔室
24
先进过程控制(APC)
虚拟计量、预测模型、自适应控制
APC智能
25
机器学习在MOCVD中的应用
异常检测、参数优化、良率预测
MLAI
26
案例研究：GaN HEMT
GaN HEMT工艺重复性提升实例
案例GaN
27
案例研究：LED外延片
LED外延片批次一致性改善实例
案例LED
28
案例研究：VCSEL结构
VCSEL结构MOCVD工艺控制实例
案例VCSEL
29
未来趋势
数字化孪生、AI辅助工艺开发、全自动工厂
前沿数字化
30
课程总结与综合考核
知识体系回顾、实际应用场景分析、认证考试
考核总结