01
半导体设备概述
半导体制造流程简介 · 常见设备分类 · 维护重要性
光刻机刻蚀机薄膜沉积
02
安全规范与操作规程
工厂安全文化 · 设备操作安全 · 化学品/气体安全
紧急处理PPE
03
设备维护基础理论
预防性/纠正性维护 · 维护计划 · 文档管理
PMCM
04
真空系统维护
干泵/分子泵/低温泵 · 泄漏检测 · 常见故障
真空计氦检
05
气体输送系统维护
特气柜/气瓶柜 · MFC校准 · 管道吹扫 · 纯化
GCGBMFC
06
射频与等离子体系统
射频发生器 · 匹配网络 · 等离子体诊断
RF匹配器
07
温控系统维护
加热器/冷却器 · 传感器校准 · PID调试
PID热电偶
08
运动控制系统
步进/伺服电机 · 编码器 · 导轨丝杆 · 控制卡
驱动器光栅尺
09
传感器与执行器
压力/流量/温度传感器 · 阀门 · 信号干扰
4-20mAIO-Link
10
PLC与工业控制系统
PLC编程 · HMI · SCADA · 常见故障复位
西门子三菱
11
光刻机维护 (上)
工作原理 · 光源系统 · 掩模版传输
汞灯激光
12
光刻机维护 (下)
工件台校准 · 对准系统 · 涂布显影单元
Wafer Stage
13
刻蚀机维护
RIE/ICP刻蚀 · 电极维护 · 终点检测
等离子体OES
14
薄膜沉积设备维护
PVD靶材 · CVD腔体清洁 · ALD前驱体
溅射原子层
15
离子注入机维护
离子源 · 束线光学 · 剂量均匀性 · 法拉第杯
束流剂量
16
CMP设备维护
抛光垫修整 · 抛光液 · 终点检测 · 清洗单元
平坦化研磨
17
清洗设备维护
湿法清洗槽 · 兆声清洗 · IPA/旋转干燥
RCAMarangoni
18
检测与量测设备维护
SEM维护 · OCD校准 · 膜厚仪校准
CD-SEM椭偏仪
19
故障排查方法论
FTA · 5W1H · 鱼骨图 · 排查流程
根因8D
20
电气系统故障排查
UPS/PDU · 接地屏蔽 · 万用表示波器
电气图绝缘
21
冷却水系统故障排查
DI水监控 · 循环泵 · 热交换器 · 流量压力
纯水CDU
22
压缩空气与排气系统
压缩空气质量 · 干燥机 · 过滤器 · Scrubber
CDA尾气
23
设备通信与网络故障
SECS/GEM · 网络诊断 · 数据采集丢失
EthernetHSMS
24
备件管理与库存优化
关键备件 · 安全库存 · 生命周期 · 替代件
ABC分类ERP
25
设备性能监控与数据分析
OEE · SPC · 趋势分析 · 预测性维护
PdM机器学习
26
静电防护与洁净室规范
ESD控制 · 洁净室等级 · 颗粒控制 · 洁净服
离子风机ISO Class
27
设备安装与验收
搬入定位 · Hook-up · SAT/IQ/OQ/PQ
FAT验证
28
设备改造与升级
硬件升级 · 软件版本 · 改造验证 · 变更管理
ECN合规
29
案例实战
光刻对准失败 · 刻蚀速率异常 · 真空泵故障
故障树实战
30
综合实战与职业发展
故障模拟演练 · 团队管理 · 技能树与规划
职业路径管理