01
项目启动与方案评审
需求分析 · 技术可行性评估 · 光学系统指标分解 · 方案评审流程与关键节点
评审指标分解启动
02
光学设计输入定义
物方/像方参数确定 · 波长与光谱选择 · 探测器与像元尺寸匹配 · F数/NA与景深约束
参数探测器F数
03
初始结构选型
经典结构库介绍（双高斯、库克三片、远心、鱼眼）· 专利检索与复用 · 初始结构缩放与优化
双高斯远心专利
04
像差理论与校正策略
赛德尔像差概述 · 球差/彗差/像散/场曲/畸变/色差 · 像差平衡的艺术
赛德尔色差校正
05
Zemax/OpticStudio基础操作
软件界面 · 透镜数据编辑器 · 评价函数编辑器 · 优化向导 · 点列图/MTF/场曲畸变
ZemaxMTF操作
06
评价函数构建
默认评价函数（RMS/PTV）· 自定义操作数（SPHA/COMA/ASTI/DIST）· 权重分配 · 边界约束
RMS操作数权重
07
局部优化与全局优化
阻尼最小二乘法 · 锤形优化 · 全局搜索算法 · 优化策略选择与实战技巧
全局优化锤形策略
08
非球面设计
非球面方程 · 偶次/奇次非球面 · 最佳拟合球面 · 像差校正 · 加工可行性评估
非球面拟合加工
09
公差分析基础
公差类型（曲率/厚度/偏心/倾斜/折射率）· 灵敏度分析 · 反灵敏度 · 蒙特卡洛模拟
公差灵敏度蒙特卡洛
10
公差分配与优化
统计公差与最坏情况 · 公差预算分配 · 补偿器设计 · 良率预测与优化
预算补偿器良率
11
鬼像与杂散光分析
鬼像形成机理 · Zemax鬼像路径分析 · 镀膜与遮光罩 · 杂散光抑制策略
鬼像杂散光遮光罩
12
热分析与无热化设计
温度对光学材料的影响 · 热膨胀系数匹配 · 被动/主动无热化 · 多重组态热分析
无热化热膨胀多重组态
13
应力分析与光机集成
光学元件装夹应力 · 双折射效应 · 光机一体化仿真 · 有限元分析（FEA）基础
应力双折射FEA
14
镀膜设计与光谱控制
增透膜/高反膜/分光膜 · 膜系设计软件（TFCalc/Macleod）· 镀膜对透过率的影响
增透膜TFCalc光谱
15
机械结构设计基础
镜筒与镜座设计 · 光学元件固定方式（压圈/胶接/弹簧）· 调焦机构 · 材料选择
镜筒压圈调焦
16
设计评审（DR）
设计评审流程 · 评审检查清单 · 光学设计报告撰写 · 常见评审问题与应对
DR检查清单报告
17
样机试制与装配
精密加工工艺（单点金刚石车削/模压/抛光）· 光学元件检测 · 装配流程与对准
金刚石车削模压装配
18
系统集成与调试
光路搭建 · 粗调与精调 · 分辨率板测试 · 星点测试 · 波像差检测（干涉测量）
集成星点干涉
19
成像质量测试
MTF测试仪使用 · 畸变测试 · 色彩还原测试 · 信噪比与动态范围评估
MTF畸变信噪比
20
环境试验
高低温试验 · 振动与冲击试验 · 湿热试验 · 盐雾试验 · 试验标准（GB/T、MIL-STD）
高低温振动MIL-STD
21
量产工艺设计
注塑成型光学元件 · 模压玻璃非球面 · 精密金属零件批量加工 · 组装自动化方案
注塑模压自动化
22
质量控制与统计过程控制（SPC）
关键控制参数识别 · CPK计算 · 控制图（X-bar/R图）· IQC与OQC
SPCCPK控制图
23
量产测试方案设计
在线测试与离线测试 · 快速MTF测试 · 中心偏测试 · 一致性判定标准
在线测试中心偏一致性
24
BOM与物料管理
光学BOM结构 · 物料编码规则 · 供应商管理 · 替代料验证流程
BOM编码供应商
25
设计变更管理（ECN/ECO）
变更触发条件 · 变更评审流程 · 版本控制 · 追溯性管理
ECNECO版本控制
26
成本控制与降本设计
光学元件成本构成 · 材料替代方案 · 结构简化设计 · 模具分摊策略
成本降本模具分摊
27
失效模式与影响分析（FMEA）
设计FMEA与过程FMEA · 风险优先级数（RPN）· 预防与探测措施
FMEARPN预防
28
量产爬坡与良率提升
试产阶段问题收集 · 良率分析工具（柏拉图/鱼骨图）· 持续改进（PDCA）
爬坡柏拉图PDCA
29
客户交付与验收
交付物清单（设计文件/测试报告/样品）· 客户验收标准 · 现场技术支持 · 问题闭环
交付验收技术支持
30
项目复盘与知识沉淀
项目总结报告撰写 · 经验教训库建立 · 设计规范更新 · 团队能力建设
复盘知识库规范