01
光学薄膜基础
光的波动性、干涉原理、薄膜干涉条件、单层膜与多层膜的基本概念。
波动干涉单层膜
02
膜系设计基础
特征矩阵法、导纳图解法、等效界面理论、对称膜系与周期膜系。
矩阵法导纳图等效界面
03
常用光学材料
介质材料 (SiO₂, TiO₂, Ta₂O₅, MgF₂)、金属材料 (Al, Ag, Au)、光学常数与色散。
介质金属色散
04
减反射膜设计
单层减反射膜、双层减反射膜 (V型、W型)、多层宽波段减反射膜设计实例。
V型W型宽波段
05
高反射膜设计
金属反射膜、全介质高反射膜 (λ/4堆栈)、带宽与角度特性。
金属λ/4堆栈角度
06
分光膜设计
中性分光膜、偏振分光膜 (PBS)、消偏振分光膜的设计与优化。
中性PBS消偏振
07
带通滤光片设计
法布里-珀罗 (F-P) 滤光片、多腔带通滤光片、截止滤光片 (长波通、短波通)。
F-P多腔截止
08
截止滤光片设计
长波通滤光片、短波通滤光片、陡边滤光片的设计技巧。
长波通短波通陡边
09
偏振光学薄膜
偏振分光棱镜 (PBS)、消偏振膜、相位延迟膜的设计。
PBS消偏振相位延迟
10
薄膜制备技术基础
物理气相沉积 (PVD)、化学气相沉积 (CVD)、溅射镀膜、离子束辅助沉积 (IAD)。
PVDCVDIAD
11
真空系统与设备
真空泵 (机械泵、分子泵、低温泵)、真空计、真空室设计、真空检漏。
真空泵分子泵检漏
12
蒸发镀膜技术
电阻蒸发、电子束蒸发、蒸发源设计、膜厚均匀性控制。
电阻蒸发电子束均匀性
13
溅射镀膜技术
直流溅射、射频溅射、磁控溅射、反应溅射、参数对膜质的影响。
磁控溅射反应溅射参数
14
离子辅助沉积 (IAD)
离子源类型 (考夫曼、霍尔、RF)、IAD对膜层致密性与应力的改善。
考夫曼霍尔致密性
15
膜厚监控技术
石英晶体振荡法 (QCM)、光学极值法、宽光谱监控法、时间监控法。
QCM极值法宽光谱
16
薄膜特性表征
光谱特性 (分光光度计)、膜厚测量 (台阶仪、椭偏仪)、表面形貌 (AFM、SEM)。
椭偏仪AFMSEM
17
薄膜应力与附着力
应力产生机理、应力测量方法、应力控制策略、附着力测试 (划痕法、拉伸法)。
应力附着力划痕法
18
薄膜缺陷与控制
针孔、节瘤、膜层脱落、吸收与散射损耗、洁净度控制。
针孔节瘤洁净度
19
光学薄膜设计软件
TFCale、Essential Macleod、OptiLayer、OpenFilters (开源) 的基本操作。
TFCaleMacleodOptiLayer
20
TFCale 实战
软件界面、材料库管理、膜系输入、优化算法 (单纯形法、遗传算法)、结果分析。
单纯形遗传算法材料库
21
Essential Macleod 实战
软件界面、合成与反合成、优化策略、公差分析、生产支持。
反合成公差生产支持
22
OptiLayer 实战
软件界面、Needle优化法、渐进优化、全局优化、实验数据拟合。
Needle全局优化数据拟合
23
激光薄膜设计
高损伤阈值膜、激光反射镜、偏振膜、啁啾镜 (Chirped Mirror) 设计。
损伤阈值啁啾镜偏振
24
红外光学薄膜
红外材料 (Ge, ZnSe, ZnS, Si)、红外减反射膜、红外截止滤光片、热成像系统应用。
GeZnSe热成像
25
可见光与近红外薄膜
手机摄像头滤光片 (IR-Cut)、投影系统分色膜、数码相机低通滤光片。
IR-Cut分色膜低通
26
显示与照明薄膜
OLED薄膜封装、Micro-LED光提取膜、抗反射与防眩光膜、导光板微结构膜。
OLEDMicro-LED防眩光
27
太阳能与能源薄膜
光伏减反射膜、透明导电膜 (ITO, AZO)、太阳能选择性吸收膜、热镜与冷镜。
ITOAZO选择性吸收
28
生物医学光学薄膜
内窥镜抗反射膜、手术显微镜分光膜、荧光滤光片、生物传感器薄膜。
内窥镜荧光生物传感器
29
薄膜制备工艺实战
镀膜机操作流程、工艺参数调试 (温度、速率、气压)、膜层均匀性调试实例。
工艺参数均匀性调试
30
综合项目实战
设计并制备400-700nm平均反射率<0.5%的宽波段减反射膜，全流程实战。
宽波段减反射全流程