01
镀膜基础概论
真空镀膜原理 · 薄膜生长机制 · 光学薄膜分类 · 核心参数总览
入门原理
02
真空系统认知
真空度概念 · 分子泵/扩散泵 · 真空计使用 · 抽速与极限真空
设备真空
03
基板清洗工艺
超声波清洗 · 离子源轰击 · 基板温度控制 · 表面能检测
前处理清洁
04
蒸发镀膜技术
电阻蒸发 · 电子束蒸发 · 蒸发速率控制 · 晶振/光控膜厚
蒸发膜厚监控
05
溅射镀膜技术
磁控溅射 · 直流/射频溅射 · 反应溅射 · 靶材选择与保养
溅射靶材
06
离子辅助镀膜
考夫曼/霍尔离子源 · 离子能量与束流 · 辅助沉积 · 应力调控
离子源应力
07
膜厚均匀性控制
修正挡板 · 公转/自转 · 蒸发源距离 · 均匀性模拟
均匀性挡板
08
光学常数测量
椭偏仪 · 分光光度计 · n/k提取 · 包络线法
测量光学常数
09
单层膜设计
1/4波长膜 · 1/2波长膜 · 增透膜 · 反射膜设计
设计单层
10
多层膜设计
等效界面法 · 导纳图解 · 截止滤光片 · 带通滤光片
多层滤光片
11
膜系设计软件
TFCale · Essential Macleod · 单纯形/遗传算法 · 容差分析
软件优化
12
工艺参数与膜层应力
张应力/压应力 · 应力测量 · 退火工艺 · 应力消除
应力退火
13
膜层附着力提升
附着力理论 · 离子轰击预处理 · 过渡层 · 划痕/百格测试
附着力测试
14
常见膜层缺陷分析
针孔 · 裂纹 · 膜层脱落 · 吸收过大 · 散射损耗
缺陷分析
15
工艺重复性控制
环境温湿度 · 真空室清洁 · 靶材老化 · 工艺参数窗口
重复性管控
16
光学薄膜测试标准
ISO 9211 · MIL-C-675 · 湿热/盐雾/摩擦测试
标准可靠性
17
增透膜工艺调优
单层MgF₂ · 多层宽带 · 宽角度增透 · 激光增透膜
增透AR
18
高反膜工艺调优
金属高反(Al/Ag/Au) · 介质高反 · 双色分光 · 激光高反
高反膜反射
19
截止滤光片工艺
长波通/短波通 · 边缘陡度 · 截止深度控制
截止滤光陡度
20
带通滤光片工艺
窄带设计 · 法布里-珀罗 · 中心波长 · 半宽度控制
带通F-P
21
分光膜工艺
中性分光 · 偏振分光 · 消偏振分光 · 分光比控制
分光膜偏振
22
导电膜工艺
ITO薄膜 · AZO薄膜 · 方阻控制 · 透过率与导电性
导电膜TCO
23
装饰镀膜工艺
颜色膜设计 · 金属光泽 · 耐候性 · 低成本路线
装饰颜色
24
硬质保护膜工艺
DLC膜 · Al₂O₃保护膜 · Si₃N₄ · 耐磨性测试
硬质膜保护
25
激光薄膜工艺
LIDT · 缺陷密度 · 电场优化 · 清洗与封装
激光LIDT
26
卷绕镀膜工艺
卷绕镀膜机 · 张力控制 · 卷对卷均匀性 · 柔性基板
卷绕柔性
27
工艺故障排查
真空度异常 · 膜厚偏差 · 颜色偏差 · 附着力失效
故障排查
28
工艺参数记录与分析
SPC控制图 · CPK · DOE实验设计 · 相关性分析
数据分析SPC
29
镀膜成本控制
靶材利用率 · 周期优化 · 良率提升 · 设备维护
成本效率
30
未来镀膜技术
原子层沉积ALD · 离子束溅射IBS · 先进设计 · AI调参
前沿ALD