01
真空镀膜技术概论
定义、发展历史、应用领域（光学、电子、装饰、包装），真空镀膜机基本组成与分类。
概论基础
02
真空基础知识
真空概念与单位、区域划分、气体分子运动论、平均自由程与气体流量。
理论核心
03
真空获得设备（上）
旋片式机械泵：结构、工作原理、操作要点与日常维护。
机械泵维护
04
真空获得设备（下）
罗茨泵、扩散泵、分子泵：结构、原理、启动顺序与注意事项。
高真空泵组
05
真空测量技术
热偶规、电离规、薄膜规、全量程复合真空计：原理、选型与校准。
测量仪表
06
真空系统的检漏
氦质谱检漏仪原理、喷吹法与吸枪法、常见漏点排查与处理。
检漏实操
07
真空镀膜机电气系统
主电路与控制电路、PLC与触摸屏基础、安全互锁与急停逻辑。
电气PLC
08
冷却与气动系统
冷却水循环、压缩空气管路、电磁阀与气缸的维护。
辅助维护
09
蒸发镀膜技术（上）
电阻蒸发源（钨舟、钼舟、坩埚）选择与安装、蒸发材料预处理。
蒸发电阻
10
蒸发镀膜技术（下）
电子束蒸发原理、束流扫描控制、膜厚均匀性调节技巧。
电子束均匀性
11
溅射镀膜技术（上）
直流/射频溅射原理、靶材安装与绑定、溅射气体(Ar)选择。
溅射靶材
12
溅射镀膜技术（下）
磁控溅射磁场设计、反应溅射(TiO₂/SiO₂)工艺、靶中毒与打火处理。
磁控反应溅射
13
离子辅助镀膜技术
离子源（考夫曼源、霍尔源）原理、离子束能量与束流密度对膜层影响。
离子源辅助
14
膜厚监控技术
石英晶体振荡法(QCM)原理、晶振片更换与寿命管理、光学监控简介。
监控QCM
15
基片清洗与前处理
超声波清洗流程、离子轰击清洗(辉光放电)参数、基片加热与温度控制。
清洗前处理
16
镀膜工艺参数设定
本底真空度、工作气压、沉积速率、基片温度、靶基距协同优化。
工艺优化
17
膜层均匀性控制
旋转夹具设计、修正挡板使用、行星架与伞架结构对比。
均匀性夹具
18
膜层应力与附着力
应力产生机理、退火消除应力、划痕法与胶带法测试附着力。
应力附着力
19
光学膜系设计基础
单层/多层膜、增透膜与高反膜设计原理、TFC/Macleod软件入门。
设计软件
20
膜层质量检测方法（上）
分光光度计(透过率/反射率)、台阶仪测膜厚、XRD分析晶体结构。
检测光学
21
膜层质量检测方法（下）
原子力显微镜(AFM)观察形貌、盐雾试验与恒温恒湿环境可靠性。
形貌可靠性
22
常见镀膜缺陷分析
针孔、膜层发雾、色差、附着力不良的原因分析与解决对策。
缺陷对策
23
工艺重复性与稳定性
SPC统计过程控制、CpK计算、工艺窗口建立与维护。
SPC质量
24
日常维护保养
每日点检表、每周/月/季度保养计划、真空泵油更换与清洁。
保养计划
25
故障排除
真空度抽不上、溅射电源报警、基片架卡顿等常见故障处理流程。
故障维修
26
镀膜安全操作规程
高压安全、化学品安全(丙酮/酒精)、机械伤害防护、应急预案。
安全规范
27
光学镀膜实战案例（上）
AR增透膜工艺开发流程：从设计到量产。
AR实战
28
光学镀膜实战案例（下）
窄带滤光片镀膜工艺难点与解决方案。
滤光片难点
29
装饰镀膜实战案例
金色TiN镀膜工艺参数优化、颜色Lab值控制。
TiN装饰
30
功能镀膜实战案例
DLC类金刚石膜、ITO透明导电膜的制备工艺要点。
DLCITO