第1章
红外光学薄膜概述
定义、应用领域（军事、航天、医疗）、发展历史与趋势
基础导论
第2章
薄膜光学基础理论
光的干涉原理、单层膜与多层膜光学特性、特征矩阵法
核心理论
第3章
红外光学材料特性
Ge、Si、ZnSe、ZnS、硫系玻璃的折射率/色散/透过率
材料红外
第4章
薄膜沉积技术基础
PVD与CVD基本原理与分类
工艺
第5章
热蒸发镀膜技术
电阻加热蒸发与电子束蒸发原理、参数控制、优缺点
蒸发PVD
第6章
溅射镀膜技术
直流/射频/磁控溅射原理、特点及红外薄膜应用
溅射PVD
第7章
离子辅助沉积技术
考夫曼/霍尔离子源、离子能量与束流密度影响
IAD改性
第8章
薄膜生长机理
成核理论、岛状/层状生长、柱状晶控制
微观机理
第9章
膜厚监控技术
QCM、光学极值法、宽光谱监控法原理与精度对比
监控精度
第10章
红外增透膜设计
单层/多层增透膜（V型、W型）设计原理与实例
增透设计
第11章
红外高反膜设计
金属反射膜(Au/Ag/Al)与介质反射膜(λ/4堆栈)
高反反射
第12章
红外分光膜设计
长波通、短波通、带通滤光片设计与截止深度控制
分光滤光
第13章
红外截止滤光片设计
多光谱融合系统截止滤光片设计案例
截止多光谱
第14章
薄膜应力分析
热应力/本征应力机理、基片曲率法测量与调控
应力可靠性
第15章
薄膜附着力与牢固度
划痕法/拉伸法测试、影响因素及改善措施
附着力测试
第16章
薄膜缺陷与控制
针孔、节瘤、膜层脱落成因与检测抑制策略
缺陷工艺
第17章
红外薄膜光学常数测量
椭偏法、光度法(包络线法)、全光谱拟合法
测量光学常数
第18章
红外光谱分析技术
FTIR原理、光谱数据处理与膜层性能表征
FTIR表征
第19章
薄膜均匀性控制
膜厚均匀性理论、修正挡板、行星运动机构
均匀性工装
第20章
镀膜工艺参数优化
本底真空度、沉积速率、基片温度综合影响
工艺优化
第21章
红外薄膜环境适应性
高低温循环、湿热/盐雾试验标准与失效分析
环境可靠性
第22章
红外薄膜激光损伤阈值
损伤机理、1-on-1/R-on-1测试、提高方法
激光损伤
第23章
硫系玻璃薄膜制备
硫系玻璃特性、薄膜工艺及红外非球面透镜应用
硫系非球面
第24章
金刚石薄膜与类金刚石薄膜
CVD/PECVD制备、光学特性及红外窗口保护层
DLC保护层
第25章
红外薄膜微纳结构
亚波长结构、蛾眼结构设计与宽波段增透
微纳蛾眼
第26章
薄膜设计与仿真软件
Essential Macleod、TFCalc、OptiLayer使用方法与实例
软件仿真
第27章
红外薄膜批量生产工艺
镀膜机选型、工装夹具、工艺稳定性与良率提升
量产工艺
第28章
红外薄膜质量检测与标准
国标GB/T、美军标MIL性能要求与检测方法
标准质检
第29章
红外薄膜前沿技术
原子层沉积(ALD)、超表面与超材料薄膜
前沿ALD
第30章
红外薄膜项目实战
需求分析、材料选型、膜系设计、工艺调试到性能测试全流程
实战综合