01
PVD技术概述
什么是PVD？发展历史 · 蒸发/溅射/离子镀 · 与CVD、电镀对比
基础分类
02
真空技术基础
真空概念与单位 · 低/高/超高真空 · 机械泵/分子泵/低温泵 · 皮拉尼规/电离规
真空测量
03
真空系统设计与检漏
真空室材料 · CF/KF法兰 · 阀门 · 氦质谱检漏/压力上升法
设计检漏
04
等离子体物理基础
等离子体定义与产生 · 辉光放电 · 电子温度/离子密度 · 表面相互作用
等离子体物理
05
蒸发镀膜原理
热蒸发 · 电阻/电子束蒸发源 · 蒸发速率与膜厚控制 · 特点与局限
蒸发膜厚
06
溅射镀膜原理
溅射产额 · 直流/射频/磁控溅射 · 反应溅射
溅射磁控
07
磁控溅射技术详解
平衡/非平衡磁控 · 脉冲溅射 · HiPIMS · 靶材设计
磁控HiPIMS
08
离子镀技术
空心阴极离子镀 · 电弧离子镀 · 离子束辅助沉积(IBAD)
离子镀IBAD
09
膜层生长与形核理论
岛状/层状/混合模式 · 形核长大 · Zone模型 · 应力机制
生长微观
10
膜厚监控技术
QCM原理 · 光电极值法/宽光谱 · 膜厚均匀性控制
监控QCM
11
PVD靶材技术
金属/合金/陶瓷靶 · 制备工艺 · 利用率与回收 · 绑定技术
靶材材料
12
基片清洗与预处理
表面污染 · 湿法清洗 · 等离子体清洗 · 离子束刻蚀 · 加热/偏压
清洗预处理
13
PVD工艺参数优化
本底真空 · 工作气压 · 功率 · 温度 · 沉积速率 · 靶基距
工艺优化
14
装饰镀膜技术
金/银/黑色膜层 · 颜色调控(光学干涉) · 耐磨耐蚀测试
装饰颜色
15
硬质涂层技术
TiN/TiAlN/CrN/DLC · 微观结构与硬度 · 切削工具应用
硬质涂层DLC
16
光学薄膜技术
增透膜/高反膜/滤光片 · 光学常数(n,k) · 应力与附着力
光学薄膜
17
透明导电薄膜(TCO)
ITO/AZO/FTO · 光电性能调控 · 触摸屏/太阳能电池
TCO透明导电
18
半导体与微电子PVD
Al/Cu互连 · TaN/TiN阻挡层 · 栅极金属 · 晶圆磁控溅射
微电子互连
19
磁性薄膜与存储技术
CoFeB/NiFe · GMR效应 · MRAM中的PVD工艺
磁性存储
20
太阳能电池中的PVD
背电极(Ag/Al) · 透明电极(ITO/AZO) · 钝化接触 · 钙钛矿PVD
太阳能电极
21
PVD在LED与光电子
金属反射镜 · 透明导电层 · DBR反射镜 · 电极制备
LED光电子
22
PVD在医疗器械
生物相容性(Ti/Zr) · 抗菌(Ag) · 耐磨(DLC) · 植入物/手术器械
医疗生物
23
PVD在航空航天
高温防护 · 耐磨/抗腐蚀涂层 · 热障涂层(TBC)
航空热障
24
包装与装饰行业
阻隔层(AlOx/SiOx) · 烫金膜 · 拉丝/彩色装饰膜
包装装饰
25
PVD设备操作与维护
开机流程 · Recipe编写 · 故障排查(电弧/靶材/泄漏) · 日常保养
设备维护
26
PVD膜层表征技术
SEM/AFM/XRD/XPS · 纳米压痕/划痕测试
表征分析
27
PVD工艺缺陷分析
针孔/起皮/膜厚不均/颜色不均/附着力差 · 原因与对策
缺陷解决
28
PVD工艺仿真与设计
蒙特卡洛模拟 · 有限元热应力 · 机器学习参数优化
仿真AI
29
PVD前沿与发展趋势
HiPIMS新进展 · ALD+PVD · 卷对卷 · 绿色PVD
前沿趋势
30
PVD项目实战案例
需求分析/设备选型/工艺开发/样品制备/量产导入 · 手机中框PVD
实战案例