01
镀膜基础与光学原理
光的干涉 · 薄膜光学基础 · 光学常数（n/k）· 膜系设计基础
基础干涉
02
镀膜材料学
高折射率材料（TiO₂, Ta₂O₅, Nb₂O₅）· 低折射率材料（SiO₂, MgF₂）· 特性与选择
材料折射率
03
镀膜设备与工艺
真空镀膜机结构 · 电子束蒸发 · 离子辅助沉积（IAD）· 溅射镀膜
设备IAD
04
膜系设计软件入门
Essential Macleod / TFCalc 界面 · 材料库管理 · 目标设定
软件Macleod
05
单层膜设计
单层增透膜 · 单层高反膜 · 光学导纳图分析
单层导纳
06
多层增透膜设计
V型增透膜 · 宽波段增透膜 · 双波段增透膜
增透宽波段
07
带通滤光片设计
法布里-珀罗（F-P）结构 · 窄带通 · 宽带通
带通F-P
08
截止滤光片设计
长波通（LP）· 短波通（SP）· 边缘陡度优化
截止陡度
09
分光膜设计
50:50分光膜 · 偏振分光膜（PBS）· 消偏振分光膜
分光PBS
10
高反膜设计
金属高反膜 · 介质高反膜 · 激光损伤阈值（LIDT）考量
高反LIDT
11
膜系优化策略
Needle法 · 梯度优化 · 全局优化 · 模拟退火
优化Needle
12
膜系容差分析
厚度容差 · 折射率容差 · 环境稳定性分析
容差稳定性
13
镀膜前处理工艺
基板清洗 · 离子束清洗 · 预加热工艺
前处理清洗
14
镀膜工艺参数控制
沉积速率 · 基板温度 · 真空度 · 氧气分压
工艺参数
15
膜厚监控技术
石英晶体监控（QCM）· 光学监控（OMS）· 宽光谱监控
监控QCM
16
均匀性与重复性
旋转夹具设计 · 修正挡板 · 工艺窗口控制
均匀性重复性
17
镀膜缺陷控制
节瘤缺陷 · 针孔 · 膜层应力 · 膜层脱落
缺陷应力
18
镀膜后处理
退火工艺 · 激光清洗 · 环境测试（MIL-STD）
后处理MIL-STD
19
光谱测试与分析
分光光度计使用 · 光谱曲线解读 · 色度坐标计算
测试光谱
20
滤光片可靠性测试
附着力测试 · 温湿度测试 · 盐雾测试 · 耐磨测试
可靠性环境
21
量产工艺文件编制
SOP编写 · 工艺参数卡 · 检验标准
文件SOP
22
镀膜机台校准与维护
晶振片更换 · 光控校准 · 真空泵维护
维护校准
23
滤光片切割与封装
划片工艺 · 激光切割 · 封装保护
切割封装
24
安防领域应用
日夜切换滤光片 · 红外截止滤光片
安防IR-CUT
25
光通信领域应用
DWDM滤光片 · CWDM滤光片 · GFF增益平坦滤光片
光通信DWDM
26
生物医疗领域应用
荧光滤光片 · 拉曼滤光片 · 内窥镜滤光片
医疗荧光
27
激光雷达（LiDAR）应用
窄带滤光片 · 抗环境光滤光片
LiDAR窄带
28
消费电子应用
3D结构光滤光片 · 屏下指纹滤光片
消费电子3D
29
成本控制与良率提升
材料成本优化 · 工艺节拍优化 · 缺陷率降低
成本良率
30
项目管理与交付
NPI导入流程 · 客户沟通 · 量产爬坡 · 持续改进
项目NPI