01
TEM明场像原理
透射电子显微镜中明场像的形成机制、阿贝成像原理、物镜光阑的作用。
明场阿贝成像
02
TEM暗场像原理
暗场像的形成机制、中心暗场像与偏转暗场像的区别、衍射衬度来源。
暗场衍射衬度
03
明场与暗场像的对比
衬度反转现象、信息互补性、各自适用的材料类型。
衬度反转互补
04
双光束条件
如何获得双光束条件、双光束条件下的明场与暗场像、偏离参量s的影响。
双光束偏离参量
05
实验操作要点
样品制备要求、光阑选择技巧、曝光时间设置、图像采集与处理。
制样光阑采集
06
明场像应用案例
位错观察、层错分析、晶界衬度、析出相识别。
位错层错晶界
07
暗场像应用案例
第二相粒子分布、畴结构分析、缺陷类型判定。
第二相畴缺陷
08
明暗场对比分析
同一区域明场与暗场像的联合分析、衬度变化解读、结构信息提取。
联合分析衬度
09
常见问题与对策
像散校正、样品漂移、非晶态干扰、衍射斑点重叠。
像散漂移非晶
10
综合实验设计
从样品制备到图像分析的完整流程、数据记录规范、报告撰写要点。
实验流程报告
11
明场像的衬度机制
质量厚度衬度、衍射衬度、相位衬度的区别与联系。
质量厚度衍射相位
12
暗场像的衬度机制
结构因子衬度、取向衬度、应变场衬度。
结构因子取向应变
13
选区电子衍射与暗场像
如何利用选区衍射选择特定衍射束、暗场像的衍射条件标定。
选区衍射标定
14
多光束条件下的成像
多光束干涉效应、明场与暗场像的复杂性、如何简化分析。
多光束干涉
15
高分辨明场像
HRTEM中的明场像、相位衬度与原子像、Scherzer欠焦条件。
HRTEM相位衬度欠焦
16
高分辨暗场像
HAADF-STEM原理、Z衬度成像、与常规暗场像的对比。
HAADFZ衬度
17
明场像的定量分析
图像强度标定、厚度测量、衬度模拟。
定量强度模拟
18
暗场像的定量分析
衍射强度测量、缺陷密度统计、取向关系确定。
衍射强度缺陷统计
19
动态衍射理论简介
Howie-Whelan方程、柱近似方法、多束动力学模拟。
动力学柱近似
20
运动学衍射理论
运动学近似条件、消光距离、等厚条纹与等倾条纹。
运动学消光距离
21
明场像中的等厚条纹
形成机制、条纹间距与样品厚度的关系、应用实例。
等厚条纹厚度
22
暗场像中的等倾条纹
弯曲等倾线、应变场分析、位错衬度模拟。
等倾线应变
23
位错的明场与暗场像
g·b分析法则、位错不可见判据、Burgers矢量确定。
g·bBurgers
24
层错的明场与暗场像
层错条纹特征、α条纹与δ条纹、层错能测量。
层错α条纹层错能
25
晶界的明场与暗场像
倾斜晶界与扭转晶界、晶界条纹、重位点阵模型。
晶界重位点阵
26
析出相的明场与暗场像
共格析出相、非共格析出相、应变场衬度。
析出相共格应变场
27
磁畴的洛伦兹电镜成像
明场洛伦兹像、暗场洛伦兹像、磁畴壁衬度。
洛伦兹磁畴
28
原位TEM中的明场与暗场像
加热、拉伸、气体环境下的动态观察。
原位动态
29
图像处理与伪彩色增强
明场与暗场像的叠加、伪彩色编码、信息融合。
伪彩色融合
30
综合案例分析
典型材料体系的明场与暗场像对比分析（如铝合金、钛合金、半导体异质结）。
铝合金钛合金异质结