第1章
XPS基础
XPS原理简介 · 能谱图构成 · 分析深度与灵敏度
原理基础
第2章
荷电效应
产生机理 · 对谱图的影响 · 判定方法
荷电机理
第3章
荷电校正
内标法(C1s) · 外标法 · 荷电中和枪使用
校正内标
第4章
谱图预处理
背景扣除(Shirley/Tougaard) · 平滑 · 归一化
预处理背景
第5章
分峰拟合
峰形选择(G-L) · 拟合策略 · 约束条件 · 质量评估
拟合峰形
第6章
数据解读
化学位移 · 半峰宽 · 峰面积比与定量
分析定量
第7章
常见问题
C1s漂移 · 多重峰重叠 · 信噪比 · 数据可比性
故障漂移
第8章
实战案例
聚合物 · 金属氧化物 · 纳米材料 XPS校正
案例实战
第9章
软件操作
Avantage · CasaXPS · Thermo Advantage 流程
软件工作流
第10章
质量控制
采集参数优化 · 重复性 · 标准样品测试
质控标准
第11章
XPS基础
XPS原理简介 · 能谱图构成 · 分析深度与灵敏度
原理基础
第12章
荷电效应
产生机理 · 对谱图的影响 · 判定方法
荷电机理
第13章
荷电校正
内标法(C1s) · 外标法 · 荷电中和枪使用
校正内标
第14章
谱图预处理
背景扣除(Shirley/Tougaard) · 平滑 · 归一化
预处理背景
第15章
分峰拟合
峰形选择(G-L) · 拟合策略 · 约束条件 · 质量评估
拟合峰形
第16章
数据解读
化学位移 · 半峰宽 · 峰面积比与定量
分析定量
第17章
常见问题
C1s漂移 · 多重峰重叠 · 信噪比 · 数据可比性
故障漂移
第18章
实战案例
聚合物 · 金属氧化物 · 纳米材料 XPS校正
案例实战
第19章
软件操作
Avantage · CasaXPS · Thermo Advantage 流程
软件工作流
第20章
质量控制
采集参数优化 · 重复性 · 标准样品测试
质控标准
第21章
XPS基础
XPS原理简介 · 能谱图构成 · 分析深度与灵敏度
原理基础
第22章
荷电效应
产生机理 · 对谱图的影响 · 判定方法
荷电机理
第23章
荷电校正
内标法(C1s) · 外标法 · 荷电中和枪使用
校正内标
第24章
谱图预处理
背景扣除(Shirley/Tougaard) · 平滑 · 归一化
预处理背景
第25章
分峰拟合
峰形选择(G-L) · 拟合策略 · 约束条件 · 质量评估
拟合峰形
第26章
数据解读
化学位移 · 半峰宽 · 峰面积比与定量
分析定量
第27章
常见问题
C1s漂移 · 多重峰重叠 · 信噪比 · 数据可比性
故障漂移
第28章
实战案例
聚合物 · 金属氧化物 · 纳米材料 XPS校正
案例实战
第29章
软件操作
Avantage · CasaXPS · Thermo Advantage 流程
软件工作流
第30章
质量控制
采集参数优化 · 重复性 · 标准样品测试
质控标准