01
XPS技术概述
基本原理、发展历史、在材料科学中的核心地位
基础原理
02
XPS仪器构成
X射线源、样品室、电子能量分析器、检测器、超高真空系统
硬件真空
03
光电子发射过程
光电效应、结合能、功函数、费米边、俄歇电子
核心物理
04
谱图基础
全谱扫描、窄谱扫描、结合能标定、荷电效应校正
操作校正
05
谱峰识别
C1s、O1s、N1s等常见元素特征峰，自旋轨道分裂
识谱元素
06
定量分析基础
相对灵敏度因子(RSF)、原子浓度计算、误差来源
定量计算
07
化学位移原理
初始态效应、终态效应、弛豫能对结合能的影响
机理位移
08
元素价态分析
过渡金属2p谱、稀土元素3d谱、主族元素特征
价态金属
09
谱峰拟合基础
峰形函数（Gaussian-Lorentzian）、背景扣除（Shirley、Tougaard）
拟合背景
10
拟合策略
约束条件设置、半峰宽(FWHM)控制、拟合优度评估
进阶策略
11
C1s谱深度解析
C-C/C-H、C-O、C=O、O-C=O、π-π*卫星峰
碳精细
12
O1s谱深度解析
金属氧化物、羟基、吸附氧、晶格氧的区分
氧氧化物
13
N1s谱深度解析
吡啶氮、吡咯氮、石墨氮、氧化氮的识别
氮掺杂
14
Fe 2p谱分析
Fe(0)、Fe(II)、Fe(III)的区分，卫星峰特征
铁卫星峰
15
Co 2p谱分析
Co(II)、Co(III)的区分，shake-up卫星峰
钴shake-up
16
Ni 2p谱分析
Ni(0)、Ni(II)、Ni(III)的区分，多分裂效应
镍多重分裂
17
Cu 2p谱分析
Cu(0)、Cu(I)、Cu(II)的区分，俄歇参数法
铜俄歇
18
Mn 2p谱分析
Mn(II)、Mn(III)、Mn(IV)的区分，多重分裂
锰价态
19
贵金属分析
Au 4f、Pt 4f、Pd 3d的价态与合金效应
贵金属合金
20
半导体材料
Si 2p、Ge 3d、Ga 3d的化学位移与氧化态
半导体氧化
21
二维材料
石墨烯C1s、MoS2 Mo 3d和S 2p、h-BN B1s和N1s
二维石墨烯
22
钙钛矿材料
Pb 4f、I 3d、Br 3d的价态与分解产物分析
钙钛矿光伏
23
电池材料
Li 1s、过渡金属价态变化、SEI膜成分分析
电池SEI
24
催化剂表征
金属态与氧化态比例、载体效应、表面物种识别
催化表面
25
深度剖析技术
Ar离子刻蚀、团簇离子源、角度分辨XPS
深度刻蚀
26
原位XPS
气氛环境、电化学原位、温度控制原位测试
原位动态
27
数据处理软件
Avantage、CasaXPS、XPSPeak的操作要点
软件实操
28
数据报告规范
谱图标注、拟合参数表、误差分析、可重复性
规范报告
29
常见误区与陷阱
X射线损伤、样品污染、荷电效应误判
避坑经验
30
综合案例分析
从原始数据到科学结论的完整流程演示
实战案例