半导体Fab内缺陷监控与闭环控制实战 · 课程目录

1

缺陷监控概论

来源分类良率影响监控体系总览

2

缺陷检测技术基础

光学检测电子束检测表面扫描

3

KLA-Tencor设备操作

暗场/明场Recipe设定数据采集

4

扫描电子显微镜应用

SEM成像缺陷复查EDX成分分析

5

缺陷数据管理

数据库架构数据清洗历史归档

6

SPC控制图基础

均值-极差均值-标准差单值-移动极差

7

缺陷密度监控

缺陷密度计算区域分布时间序列趋势

8

缺陷分类与编码

形态分类成分分类编码体系

9

缺陷根源分析

鱼骨图5WhyFMEA

10

缺陷与工艺关联

光刻缺陷刻蚀缺陷薄膜沉积

11

缺陷空间分布

晶圆内分布批次间分布腔室匹配

12

缺陷复现实验

DOE设计参数筛选验证实验

13

闭环控制框架

反馈控制前馈控制实时策略

14

缺陷报警系统

阈值设定多级报警响应流程

15

自动缺陷分类

机器学习特征提取模型训练

16

缺陷根因定位

相关性分析主成分分析决策树

17

工艺腔室监控

颗粒监控老化趋势预防维护

18

光刻区缺陷控制

涂胶显影掩模版缺陷套刻精度

19

刻蚀区缺陷控制

侧壁沉积微沟槽聚合物残留

20

薄膜区缺陷控制

针孔缺陷应力裂纹颗粒嵌入

21

CMP区缺陷控制

划伤缺陷碟形凹陷腐蚀坑

22

扩散区缺陷控制

金属离子污染氧化层缺陷扩散均匀性

23

缺陷良率模型

良率预测关键缺陷筛选损失分析

24

缺陷成本分析

检测成本返工成本报废核算

25

缺陷数据库SQL实战

查询聚合异常筛选报表生成

26

Python缺陷分析脚本

数据读取统计计算自动报告

27

缺陷监控Dashboard

实时面板KPI指标趋势预警

28

缺陷评审会议

MRB流程处置决策改善追踪

29

缺陷控制案例

典型工艺案例改善措施经验教训

30

AI缺陷检测数字孪生智能闭环