第四章 添加剂家族(上):成膜、防过充与除酸除水

各位同行,今天我们来聊聊电解液添加剂。说实话,添加剂这东西,用量不大,但作用巨大。我经常跟团队说,电解液配方里,溶剂是骨架,锂盐是灵魂,那添加剂就是点睛之笔。特别是高压钴酸锂体系,没有好的添加剂组合,你电压一上去,电解液立马给你脸色看。

这一章我们先讲三个大类:成膜添加剂、防过充添加剂、还有除酸除水添加剂。这三类,是高压体系的基础配置。

4.1 成膜添加剂:VC、FEC、PS

成膜添加剂,说白了就是在负极表面形成一层保护膜。这层膜,我们叫SEI膜。它要够薄、够致密、够稳定。高压下,负极表面活性很高,电解液容易分解。没有好的SEI膜,电池循环寿命会断崖式下跌。

4.1.1 VC(碳酸亚乙烯酯)

VC是成膜添加剂里的老大哥。它的还原电位比较高,大概在1.2V vs Li/Li+左右。这意味着在电池首次充电时,VC会比溶剂先一步在负极表面还原,形成一层聚合物膜。

VC的核心优势:

  • 成膜致密,能有效抑制溶剂共嵌入
  • 膜阻抗适中,不影响倍率性能
  • 成本相对较低,工业上成熟

但我得提醒你,VC不是万能的。我在项目中遇到过,VC加多了,高温存储性能会变差。为什么?因为VC形成的膜在高温下会进一步交联,导致阻抗增加。我个人习惯,VC的添加量控制在1%-3%之间,具体看体系需求。

注意:VC对水分敏感。如果你的电解液水分超标,VC会优先和水反应,生成CO2和乙二醇。这会导致成膜失败,电池产气。所以,加VC前,务必确认你的电解液水分在20ppm以下。

4.1.2 FEC(氟代碳酸乙烯酯)

FEC是VC的升级版。它用氟原子取代了VC上的一个氢原子。这个小小的改变,带来了巨大的性能提升。

FEC的还原电位比VC略低,大概在1.0V左右。但它形成的SEI膜含有LiF成分。LiF这东西,化学稳定性极好,能耐受更高的电压和温度。所以,高压钴酸锂体系,我强烈建议用FEC替代部分VC。

性能指标 VC FEC
还原电位 ~1.2V ~1.0V
膜成分 聚碳酸酯类 LiF + 聚碳酸酯
高温稳定性 一般 优秀
推荐用量 1%-3% 2%-5%

你想想看,FEC这么好,是不是可以完全替代VC?不一定。FEC的成本比VC高不少,而且FEC的成膜速度比VC慢。我建议的做法是:VC和FEC复配使用。比如1% VC + 3% FEC,这样既有VC的快速成膜,又有FEC的高温稳定性。

4.1.3 PS(1,3-丙烷磺内酯)

PS这个添加剂,很多人容易忽略它。其实,PS在高压体系里是个宝贝。它的作用机理和VC、FEC不同。PS是在负极表面形成一层含硫的有机膜。这层膜对抑制钴溶出特别有效。

高压钴酸锂体系,正极的钴离子会溶解到电解液里,然后迁移到负极,破坏SEI膜。PS形成的膜能有效阻挡钴离子的迁移。我记得有一次,客户反馈电池循环到500圈后容量跳水。我们排查了很久,最后发现是钴溶出导致的。加了1%的PS后,循环寿命直接提升了30%。

小技巧:PS的添加量不宜超过2%。加多了,膜的阻抗会偏大,影响低温性能。我一般控制在0.5%-1.5%。

4.2 防过充添加剂:PS、DPC

防过充添加剂,这个名字听起来很直接。它的作用就是在电池过充时,通过电化学聚合或氧化还原反应,阻止电压继续升高。说白了,就是给电池加一道安全锁。

4.2.1 PS(1,3-丙烷磺内酯)

你没看错,PS又出现了。它是个多面手。除了成膜,PS还有防过充功能。在过充条件下,PS会在正极表面发生氧化聚合,形成一层绝缘膜,阻断电流。

PS的氧化电位大概在4.5V vs Li/Li+左右。这个电位刚好卡在钴酸锂的过充区间。所以,对于4.45V以上的钴酸锂体系,PS是必须加的。

4.2.2 DPC(二苯基碳酸酯)

DPC是另一种防过充添加剂。它的作用机理和PS不同。DPC在过充时会释放出CO2气体,利用气体压力触发CID(电流中断装置),从而切断电路。

DPC的氧化电位在4.6V左右,比PS略高。我建议两者复配使用:PS负责早期防护,DPC负责后期兜底。我曾经做过一个对比实验,单独用PS的电池,过充到4.7V时失效;单独用DPC的电池,过充到4.8V才触发保护。但两者复配后,4.6V就开始响应,4.7V完全切断,效果非常好。

注意:DPC的添加量要严格控制。加多了,正常充放电时也会产气,导致电池鼓包。我建议用量在0.5%-1%。

4.3 除酸除水添加剂:TMSB、PES

电解液里的酸和水,是电池的隐形杀手。HF会腐蚀正极,水会分解产生气体。所以,我们需要一些添加剂来清除它们。

4.3.1 TMSB(三甲基硅基硼酸酯)

TMSB是一种硅基化合物。它的作用机理很简单:硅基团会和水反应,生成硅醇和氢气。同时,硼酸酯基团会和HF反应,生成稳定的硼氟化物。

TMSB的除水效率很高。1%的TMSB可以清除大约100ppm的水分。但要注意,TMSB和水的反应会产气。所以,我建议在电解液配制完成后,先静置一段时间,让TMSB充分反应,然后再进行脱气处理。

TMSB的推荐用量:0.5%-2%。具体用量取决于你的电解液初始水分含量。我一般先测水分,然后按1:100的比例添加TMSB。

4.3.2 PES(丙烷磺酸内酯)

PES和PS名字很像,但作用不同。PES主要用来清除HF。它的磺酸基团会和HF反应,生成稳定的磺酰氟化物。

PES的另一个好处是,它还能在正极表面形成一层保护膜,抑制钴溶出。所以,PES在高压体系里很受欢迎。我习惯把PES和TMSB复配使用:TMSB负责除水,PES负责除酸。两者协同,效果1+1>2。

添加剂 主要功能 推荐用量 注意事项
TMSB 除水 0.5%-2% 会产气,需脱气处理
PES 除酸、抑制钴溶出 0.5%-1.5% 对水分敏感,需配合干燥环境

4.4 本章知识体系

为了让你更直观地理解这些添加剂的关系,我画了一张图。你可以看到,成膜添加剂负责负极保护,防过充添加剂负责安全防护,除酸除水添加剂负责电解液净化。三者缺一不可。

添加剂家族(上)知识体系 成膜添加剂 防过充添加剂 除酸除水添加剂 VC 还原电位~1.2V 用量1%-3% 注意水分控制 FEC 还原电位~1.0V 用量2%-5% 含LiF膜,高温稳定 PS(成膜) 抑制钴溶出 PS(防过充) 氧化电位~4.5V 形成绝缘膜 早期防护 DPC 氧化电位~4.6V 释放CO2触发CID 用量0.5%-1% TMSB 除水 用量0.5%-2% 需脱气处理 PES 除酸(HF) 抑制钴溶出 用量0.5%-1.5% 三者协同:成膜 + 防过充 + 除酸除水 = 高压体系基础 复配使用效果更佳,注意用量和工艺控制

好了,这一章的内容就到这里。添加剂家族的上半部分,我们讲了成膜、防过充、除酸除水这三类。下一章我们会继续讲剩下的几类添加剂,包括阻燃添加剂、锂盐稳定剂等等。嗯,到时候再聊。

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