第三章:热对流与热辐射——牛顿冷却定律、自然对流与强制对流、热辐射基本定律、辐射换热计算

各位工程师朋友,大家好。这一章我们聊聊热对流和热辐射。说实话,这两个概念在芯片散热里太常见了。你想想看,手机里的风扇、散热片周围的空气流动,甚至芯片表面那层黑漆,都跟它们有关。

我个人习惯把热传递分成三兄弟:导热、对流、辐射。前两章我们聊了导热,这一章重点讲对流和辐射。嗯,这两个家伙在芯片散热中,往往决定了散热效率的上限。

3.1 牛顿冷却定律——对流换热的“牛顿第一定律”

先说说牛顿冷却定律。别被名字吓到,它其实很简单。说白了,就是描述流体(空气或液体)流过固体表面时,带走热量的能力。

公式长这样:

Q = h × A × ΔT

其中:

  • Q:换热量(W),单位时间带走的热量
  • h:对流换热系数(W/m²·K),核心参数
  • A:换热面积(m²)
  • ΔT:固体表面与流体之间的温差(K 或 °C)

我在项目中遇到过一件事。有一次做平板散热器设计,我算出来的温升比实测低了10°C。查了半天,发现是h值取错了。当时我用了自然对流的经验值5 W/m²·K,但实际工况有轻微气流,应该用10 W/m²·K。你看,一个参数差一倍,结果差很多。

核心要点:牛顿冷却定律告诉我们,要提高散热能力,要么增大h,要么增大A,要么增大ΔT。但ΔT受芯片结温限制,所以工程师主要在前两个参数上做文章。

3.2 自然对流与强制对流——一个靠“缘分”,一个靠“手段”

对流换热分两种:自然对流和强制对流。我经常跟新人说,自然对流就像相亲——靠缘分,强制对流就像主动追求——靠手段。

3.2.1 自然对流

自然对流靠的是流体受热后密度变化产生的浮力。热空气上升,冷空气过来补充,形成循环。这种方式的h值很低,一般在2~10 W/m²·K之间。

举个例子。手机在静置状态下,芯片发热,热量通过外壳散到空气中。这时候就是自然对流。你摸手机背面,感觉温温的,那就是自然对流在干活。

自然对流的计算,常用经验公式:

Nu = C × (Gr × Pr)^n

其中:

  • Nu:努塞尔数,表征对流强度
  • Gr:格拉晓夫数,表征浮力与粘性力的比值
  • Pr:普朗特数,流体物性参数
  • C、n:经验常数,取决于几何形状和流态

我曾经设计一款无风扇的工业平板电脑。自然对流条件下,芯片温度总是超标。后来我加了几条散热鳍片,把换热面积翻了一倍,温度才降下来。嗯,自然对流就是这样,你只能靠面积来凑。

3.2.2 强制对流

强制对流就主动多了。用风扇、泵等设备强迫流体流动,h值可以做到20~100 W/m²·K,甚至更高。

强制对流的计算,常用迪图斯-贝尔特公式:

Nu = 0.023 × Re^0.8 × Pr^0.4

其中:

  • Re:雷诺数,表征流态(层流还是湍流)

我建议你在做强制对流设计时,重点关注两个点:

  1. 风速:风速越高,h值越大,但噪音和功耗也上去了
  2. 流道设计:避免死区,让空气顺畅流过热源

实战技巧:我在高通平台项目中,经常用风扇的P-Q曲线(压力-流量曲线)来匹配系统阻抗。选风扇时,别只看最大风量,要看工作点的风量。否则风扇转得欢,风却吹不到芯片上。

3.3 热辐射基本定律——芯片也会“发光”

热辐射,说白了就是物体因为温度而向外发射电磁波。任何温度高于绝对零度的物体都会辐射热量。芯片温度七八十度,辐射的能量虽然不如太阳,但也不能忽略。

热辐射的基本定律有四个:

定律名称 内容 公式
普朗克定律 描述黑体辐射的光谱分布 E(λ,T) = 2πhc²/λ⁵ × 1/(e^(hc/λkT)-1)
斯特藩-玻尔兹曼定律 黑体辐射总能量与温度的四次方成正比 E = σT⁴
维恩位移定律 辐射峰值波长与温度成反比 λ_max = b/T
基尔霍夫定律 物体的发射率等于吸收率 ε = α

其中,斯特藩-玻尔兹曼定律最常用。σ是斯特藩-玻尔兹曼常数,约5.67×10⁻⁸ W/m²·K⁴。注意,温度要用开尔文。

为什么芯片散热要考虑辐射?因为辐射换热与温度的四次方成正比。芯片温度越高,辐射占比越大。我做过一个测试,在自然对流条件下,辐射换热量能占到总换热量的20%~30%。

注意:芯片表面的发射率ε很关键。抛光金属的ε只有0.05左右,而黑色涂层的ε可以到0.9以上。我曾经见过一个案例,工程师没涂导热硅脂,直接用抛光铜散热片,结果辐射换热几乎为零,芯片温度飙升。后来涂了黑色导热漆,温度降了5°C。

3.4 辐射换热计算——两物体之间的“热对话”

实际工程中,我们关心的是两个或多个物体之间的辐射换热。比如芯片表面和散热器之间,散热器和外壳之间。

两个灰体表面之间的辐射换热公式:

Q = ε_eff × σ × A × (T₁⁴ - T₂⁴)

其中:

  • ε_eff:有效发射率,取决于两个表面的发射率和几何关系
  • A:换热面积
  • T₁、T₂:两个表面的温度(K)

有效发射率的计算,对于两个平行大平板:

ε_eff = 1 / (1/ε₁ + 1/ε₂ - 1)

对于封闭腔体(比如芯片被外壳包围):

ε_eff = 1 / (1/ε₁ + (A₁/A₂) × (1/ε₂ - 1))

我建议你在做辐射换热计算时,先判断辐射占比。如果芯片温度低于60°C,辐射可以忽略。如果高于80°C,辐射必须考虑。

实战总结:在高通平台项目中,我通常这样处理:

  • 自然对流场景:辐射换热占比高,必须计算
  • 强制对流场景:辐射占比低,可以忽略
  • 高温场景(>100°C):辐射不可忽略,甚至要加辐射翅片

好了,这一章的内容就到这里。热对流和热辐射,说白了就是空气和电磁波在帮芯片散热。你想想看,一个芯片发热,周围空气被加热上升,同时芯片表面也在向外辐射红外线。这两个机制同时作用,才让芯片不至于烧掉。

下一章我们聊聊热阻网络和热仿真。到时候我会分享一些高通平台上的实际案例,包括怎么用热阻模型快速估算芯片温度。嗯,那才是真正实战的东西。